光刻机有哪些国家的技术

① 为什么国家不能联合国内最先进的企业研发光刻机

光刻机基本算是目前世界上科技含量最多的科技产品了，中国可以生产光刻机，但是想生产最先进的光刻机，就不是国内企业可以做到的了，最先进的光刻机凝聚了全球制造业大国的最尖端的科技，可以说是全球科技大国的共同产出品，简单依靠中国国内的科技水平远远无法达到。

芯片是半导体行业的核心，制造芯片复杂而且漫长，提炼高纯硅单晶片、制造前端芯片构建、后端封装测试等。需求经过上千道工序重复制作，涉及50多个行业制造，上千台设备配合完成。

中国无法制造光刻机的技术难度：

1、光刻机的技术难度在于“技术封锁”，一台顶级的光刻机关键设备来自于西方发达国家，美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承、法国的阀件等，这些顶级零件对中国是禁运的。所以，ASML曾说“即便给你们全套图纸，你们也造不出来”。

2、光刻机是“人类智慧集大成”的产物，环顾全球，最先进的7nm EUV光刻机只有荷兰的ASML（阿斯麦）能够生产，超过90%的零件向外采购，整个设备的不同部位同时获得了全世界最先进的技术，因此可以在日新月异的芯片制造业取得竞争优势。

3、最顶尖的光刻机集合了很多国家的技术支持，德国为ASML提供了核心光学配件支持，美国为ASML提供光源支持及计量设备的支持，ASML要做的就是做到精确控制，7nm EUV光刻机包含了5万多个零件，德国的蔡司光学设备不精准，美国的Cymer光源不精，都可能造成很大的误差。

4、与德国、瑞典、美国等一些西方国家相比，我国的芯片制造以及超级精密的机械制造方面不具备什么优势，没有超级精密的仪器，自然就很难造出顶级的设备，无法造成顶级的芯片。最关键的是，这些超级精密的仪器根据《瓦森纳协定》对中国是禁运的。

国产光刻机的“差距”：

目前国内技术领先的光刻机研制厂家是上海微电子装备有限公司，可以稳定生产90nm制造工艺的光刻机，相比ASML的7nm制程差距还是比较大，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。同样正是SMEE推出90nm制程的光刻机后，ASML对中芯国际的7nm光刻机订单放行。

中国无法购买光刻机的原因：

1、只有投资了ASML的，才能获得优先供货权，而英特尔、三星、台积电拥有ASML很大的股份。ASML的高端光刻机产量有限，2018年18台，2019年30台，其中台积电获得了18台，我国的中芯国际1台。

2、《瓦森纳协定》的限制，瓦森纳协定有33个成员国，中国不在其列，主要目的是阻止关键技术和远见流失到成员国之外，在半导体领域，受限于该协定，在芯片制造、封装、设计等方面，我国一直无法获得国外最新的科技。

② 光刻机技术很难吗，为何只有极少国家掌握了该技术

光刻机的技术的确很难，哪怕放眼世界上的发达国家当中，也就是荷兰和日本两大国家拥有光刻机，并且大多数顶尖的技术都是被荷兰asml公司给掌握垄断的，这一家公司集合了很多欧美国家的技术，也有了时间的沉淀，所以才成为了世界上光刻机的王牌，并不是一朝一夕就可以做到的，我国还是需要很长的路要走。

这一家公司几乎聚齐了世界上大部分欧美国家的先进技术，所以通过了时间的沉淀积累，才成为了世界上最大的光刻机供应商，目前美国为了遏制我们，就禁止荷兰对我国出口光刻机，所以想要研发出这样的光刻机，并不是短时间内可以做到的，目前我国研发的光刻机依然还是精度不算高的那种，所以说我国还有很长的路需要走。

③ 光刻机技术到底是谁发明的

光刻机技术是法国人NicephoreNiepce发明的。

在早期阶段其功能简单，而且使用的材料也是较为粗糙的，通过材料光照实验发现能够复制一种刻着在油纸上的印痕，而在其出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，其透光部分的沥青就会变得很硬，但在不透光部分则可以用松香和植物油将其洗掉。

尽管光刻机发明的时间较早，不过在其发明之后，并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别。

在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中最为关键的材料之一。

光刻机性能指标：

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。

分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。

曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

④ 俄罗斯的芯片，和光刻机的技术，现在发展得怎样了

芯片、光刻机成为了俄罗斯不能说不担心芯片和光刻机的问题，只是他们现在根本还有必要操心这件事，而这一切和俄罗斯（前苏联）的近50年发展所导致的。为什么这么说呢？

总结一下就是他们不看好晶体管，同时因为体制的原因，导致许多创新被埋没。

正如前文所说的，芯片其实是近代最重要的科技。由于芯片所引领的是产业链和标准。因此，掌握了芯片技术，就可以实现垄断，并从中获取暴利。西方国家从芯片行业获取到了大量的甜头。芯片的用处很多，它需要用到方方面面的领域，无论是军工的，还是民用的。如果一个国家因为某些政治因素不能够进口芯片，那么这个国家的许多行业都会受到冲击。

⑤ 在世界上，哪几个国家能造成高端光刻机为何高端光刻机的制造难度那么大

今天，很少有国家拥有原子弹，但高端光刻机比原子弹还稀少，到目前为止，只有两个国家拥有，即荷兰和日本。

有人会问，这台光刻机是做什么的？光刻机是芯片制造的核心设备之一，芯片生产有光刻机，封装有光刻机，LED制造领域也有投影光刻机。

目前拥有原子弹的国家不多，但同时拥有比原子弹还少的高速摄影师，迄今为止，只有两个国家：荷兰和日本。有人想问这是什么相机吗？照相机是制造晶片的主要设备之一，是制造晶片的复印机，用于密封的照相机和用于制造LED的射影照相机。其中最为罕见的是生产芯片的相机，一种非常罕见的高品质相机，现在可以说所有的电子设备都离不开芯片。我国摆脱了艰苦卓绝的斗争时期，深知“落后就是胜利”。我国自成立以来，不断发展壮大，努力在各个领域追求。

它的工作原理看似并不复杂，但在实际操作中却有困难，比如制作一个微型电路，它必须嵌入数十亿美元的晶体管结构中，在一个与指甲盖大小不匹配的空间里微笑，就像一个复杂的电路。而如此复杂的电路需要用紫外线印刷，那么复印机制造晶体的过程到底是怎么发生的呢？印在华夫饼上。由于紫外线下的光刻胶会发生化学反应，经过特殊清洗和蚀刻华夫饼后，仍会留下设计图纸。

⑥ 全世界只有荷兰可以制造顶级光刻机吗

只有荷兰的ASML公司能够制造出顶级的光刻机，主要有三种原因。

荷兰是老牌的资本主义制度国家，奉行的是自由足以贸易，因为在反垄断上限度很低。ASML公司知取长补短，不断吞并收购科技公司，准备集百家之长，取其精华，研发出更为惊叹的光刻机技术。2007年到2016年间，它陆续收购了Brion、Cymer、HMI等等，拥有全球最领先的光刻机缺陷解决方案、准分子激光技术以及电子束检测能力等等。如今的ASML公司已经成为光刻机研发领域的庞然大物，之后怎么可能会有其他科技公司敢与ASML公司对抗呢？

⑦ 仅2个国家掌握 造光刻机为何这么难

造光刻机难的原因有：

1、西方国家的技术封锁：

在光刻机领域，荷兰是最有发言权的，我国很早以前就跟他们取得联系，并且希望进行相关合作，若是双方进行合作的话，很容易就能解决技术问题，可是美国却总是从中作梗，要求荷兰方面封锁相关信息，不愿意让这个技术流到中国这里。

2、没有参照物：

这么多年以来，中国之所以能够发展得这么迅猛，一方面是因为拥有相对技术的经验，另一方面就是因为，可以买到具有参考意义的物品，进行模拟式的研究，而高端光刻机的参照物，我们始终都没有获得，简直就是一张白纸，相关工作很难展开。

3、光刻机技术：

光刻机技术并不仅仅是单纯的一项技术，而是一个集合性质的技术群体，在一个光刻机里面，至少有8万多个电子元件，光刻机凝聚了人类最高智慧。

在众多技术难关中有很多关卡，即便是解决了其中一部分，也没有办法将所有的东西拆解开来，与其自己研究，还不如通过商业合作的方式，使用其中某项功能，因此中国的光刻机研究，迟迟没有真正的实现技术突破。

世界的光刻机水平：

实际上中国能制造光刻机，只是不能制造先进光刻机。在2021年的时候，中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机。这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年时国际领先水平是5nm芯片。

单论先进光刻机方面，在目前的市场上是一超多强。荷兰的asml是世界上最大、最先进的光刻机制造商，占据了全球光刻机市场80%的份额，在行业中基本做到了垄断。

整个世界有4大光刻机生产商，除了荷兰的asml，日本的佳能和尼康也在市场中占据一定份额，而中国也在里面有一个名额，那就是上海微电子。

上海微电子是全球主要的低端光刻机生产商，占据了全球低端光刻机40%的份额。所以就光刻机本身来说，光刻机并不难造，至少对于中国来说光刻机不难造，难造的是最顶尖的光刻机。

⑧ 世界上最好的光刻机来自荷兰，为什么不是芯片发达的美国

世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。

那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢？首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。

四，是美国掌握着世界芯片最顶端的芯片设计技术，光刻机是为芯片服务，如果美国停止设计高端芯片，那么荷兰的高端光刻机毫无用处，产量也是被美国控制着，不过这种优势美国越来越掌握不住了。

总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。

⑨ 为什么制造芯片最好的光刻机来自荷兰

荷兰有一家公司ASML，它是全球做光刻机最好的国家，这个根本不用质疑，这家公司拥有强大的科研实力，碾压了美国英国等等貌似芯片软件实力极强的国家。而且这家公司非常精准的抓住了光刻机技术发展的转折点，旗下的利用光源进行的浸没式系统成功打破所有国家对于光刻机的幻想，所以荷兰才能在全球的芯片制作技术中立于不败之地。

ASML在原始的光源与镜头的基础上，有效的提升了光刻机的蚀刻精度，这是非常具有里程碑意义的一个创新技术，所以，就凭借这一技术，ASML屹立在了光刻机行业的潮头，它抓住了行业的风口，所以，荷兰才能成为全球中制造芯片最好的光刻机国家。

⑩ 世界上能做出高端光刻机的国家有哪些

能制造高端光刻机的只有荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

拓展资料：

光刻机种类

一、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

1、软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；

2、硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；

3、真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）

二、接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。

三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。

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