光刻机技术怎么突破

A. 清华大学在光刻机光源获得重大新突破，光刻机技术瓶颈为何很难攻克

光刻机的技术十分难攻克的主要原因有两点，首先就是技术，其次是硬件。先说技术吧，现在没有哪一个国家能独立的制作出光刻机，都是分别掌握一个领域的技术，来分工合作，现在漂亮国掌握光刻机的核心技术，但是为了自己国家的利益，所以他不可能对外分享这些技术。然后在来谈谈硬件，光刻机的最主要的硬件就是镜头，这个镜头是由钼和硅制成的而这两个特殊材料也被相关国家把控的死死的，所以因为技术是缺乏材料的匮乏，是我国光刻机技术迟迟攻克不下的主要原因，

我国光刻机技术发展较为落后，这也成为了漂亮国牵制我国的手段，所以我们自己要有一种危机意识，要知道虽然我国现在看似和平，其实外国对我早就虎视眈眈，我们要加大力度搞科研，发展科技，只有科技上去了，其他国家才不敢小看我们，现在清华大学光刻机的光源获得了巨大的突破，这就表明我国人才已经开始进军芯片工业，相信在不久的将来，我国一定可以摆脱芯片的限制。

B. 中国的光刻机是什么水平与世界先进还有多大差距如何追赶

摘要 你好，中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距。

C. 芯片制造专用的前道国产光刻机现在进展情况如何了是不是连28NM都没有突破

最近半导体领域之中传来了两个好消息，首先就是华为旗下的哈勃投资了北京科益虹源光电技术公司，并且成为了这家企业的第七大股东。北京科益虹源主营业务是光源系统，而光源系统就是制造光刻机的核心技术之一。同时，北京科益虹源也是全球第三家193纳米ARF准备分子激光器企业。

第二个好消息是，国产光刻机巨头上海微电子目前已经表示，新一代的光刻机会在今年年底或者是明年年初实现量产，而在光源系统之中，采用了与阿斯麦DUV光刻机一样的光源技术，波长突破了193纳米。这就意味着国产代工企业将在今年或者是明年年底就能够实现7纳米工艺的代工水平，并且是在没有阿斯麦光刻机的情况之下。

可以说光刻机领域之中接连传来这两个好消息，对于我们而言，对于国产芯片未来的发展而言，起到了一定推促的促进作用，毕竟一直以来在光刻机领域之中，荷兰的阿斯麦占据绝对的垄断地位，尤其是在极紫外光刻机领域之中，更是处于绝对垄断的地位。

而国内在芯片上的短板就是因为缺少极紫外光刻机，所以导致中国企业没有办法生产出7纳米以及5纳米这样先进制程工艺的芯片。2018年，中芯国际曾经从阿斯麦买订购过一台euv光刻机，但是说到瓦森纳协定的影响，阿斯麦至今都没有出货这台EUV光刻机

后面中兴以及华为的限制使得国内科技企业自主研发的意识被彻底唤醒，于是在这样的情况之下，所有的国内厂商将希望全部中寄托在了中国光刻机企业身上。为了解决这一难题，华为在第一时间就宣布扎根半导体领域，另外，中科院也宣布入局光刻机，并且将光刻机变成科研清单。

好在伴随着时间的推移，如今一个又一个的好消息传来。关于光刻机的两个好消息传来，意味着中国心再次迎来了春天。而这对于阿斯麦来讲当然不是什么好事情。

北大教授曾经说过这样一句话，如果中国依旧拿不到阿斯麦的光刻机，那么在三年之后，中国就将会掌握这项技术，并且一旦中国掌握了这项技术，那么其生产的产本成本一定比任何一个国家都要便宜。

北大教授的这一番话，可以说对于阿斯麦来讲，更是一个重磅炸弹，失去中国市场的阿斯买强会面临地位的威胁，如今日本的尼康以及佳能正在不断崛起，挑战这阿斯麦所在的地位，如果中国真的掌握了光刻机技术，那么阿斯麦想要在进入国内市场基本上没有可能，更不要提凭借中国市场稳固其地位的梦想了。

光刻机的问题解决了，那么芯片的问题自然也就不是问题了。早在芯片禁令实施之初，张召忠就曾经公开表示，再过三年，美国的芯片将会无人购买，因为到那个时候，中国的芯片将会到处都是。

如今看起来，张召忠果然没有说错，相信过不了多久，我们在芯片领域也一定会迎来一定的突破，中国芯片在未来一定会拥有更好的发展，而对中国企业实行打压的硅谷，在将来也一定会尝到失去中国市场的苦果。

D. 研究光刻机时，人类所面对的最大难题是什么

我国一直走过来，受到不少压力，技术封锁等新闻平时似乎不叫新闻，但却是老生常谈的旧消息。目前，光刻机的技术是荷兰最有发言权的。如果我们能与之合作，它必然会加快我国芯片研究的进程。但是国家之间的合作并不简单。由于美国的压迫，相关技术被封锁致死。因此，我国的投资力度很大，但没有相应的技术，连制造项目都很难启动。努力突破并不是奇迹，但在完全没有对对方系统的认识之前，很难迈出第一步。

我们要突破对高级光刻机相关技术的垄断。荷兰的ASML成立于1984年，至今已有36年历史。在过去的30多年里，如果是与光刻机相关的技术，已经牢牢地捆绑在ASML进口上，在技术领域形成垄断趋势。如果我国的光刻企业想突破空白中层的技术壁垒，避免ASML拥有的专利，那将是多么困难的事情。我国本来光刻领域的起步比较晚，加上美国从中阻挠，使该行业的发展路径更加曲折。如果有一天，我国在高端光刻领域取得了一些突破，最需要警惕的就是美国。我国的华为是其中最明显、最实际的例子。

E. 为什么光刻机不需要大学和研究机构操心中国突破需要几年

近年来，随着我国科技的高速发展，美国为了保住自己第一科技大国的地位，便开始对我国高新技术企业进行打压，而且手段不断在升级。而在美国所有的制裁手段中，芯片断供成为了他打压我国企业最常用、最有效的手段。

其实，我国不是没有光刻机，只不过是没有做成高端而已。但是，随着国内光刻机市场的扩大，美国不断对我们进行封锁，国内企业已经开始在光刻机方面不断投入大量资金，进行技术的研发和更新，尤其是国内已经发现了可用于EUV光刻机的光源，笔者坚信，两三年之后，国产光刻机必定能取得重大突破。

F. 清华大学成立“芯片”学院，三个方向发力，能解决光刻机难题吗

光刻机的技术攻关一直是我们努力的方向，清华大学集成电路学院的成立，将会从三个二级学科发力来培养人才，其中就包括集成电路制造方向，实际上这就是瞄准了光刻机研发人才培养，但由于光刻机是属于高尖端技术，需要大量的技术储备和产业生态链，只能说清华的“芯片”学院有助于光刻机问题的解决，但要直接解决难题还有较长的一段路要走。

清华大学在110周年校庆来临之际，正式成立了清华大学集成电路学院，网友直接称之为“芯片学院”，该学院将直接对标破解当前的芯片卡脖子技术难题，这个消息让全民欢呼，让半导体行业看到了未来的希望。

但我们都知道光刻机并不是一个简单的生产装备，光刻机巨头ASML的高端型号精密零配件多达10万个，清华需要较长的一段时间来进行人才培养和技术研发，突破和创新，我们需要多一点耐心。

同时，光刻机技术的突破还需要更多的企业来共同参与，尤其是现金流好的高科技企业，都应该积极布局和投资产业链生态，大家齐心协力才能成大事，仅靠清华是不行的。

最后，我还想强调一点，集成电路人才培养的同时，也不要放松了大学生的思想教育，尤其是爱国主义教育，国家投入了大量的资金来培养掐脖子技术的人才，不能到最后人才都流失了，这或许是大家都非常担忧的地方。

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G. 光刻机制造中最难的是哪一部份中国现在能自己制造光刻机吗

在光刻机的制造过程中，对我们来说最困难的一步就是西方国家对我们的技术封锁，正是因为这些技术封锁，我们国家目前还不足以造出光刻机。

ASML目前是荷兰光刻技术的领导者，占据了80%的全球市场份额。只有ASML能生产出最先进的EUV光刻技术。光刻机的技术门槛很高，这是人类智慧的产物。ASML光刻机90%的零件来自外部采购，包括德国的光学设备、美国的计量设备和光源设备。ASM还有一个规定，就是只有投资ASML，才能获得第一供应权，也就是说，我们想买光刻机，就必须先去投资，ASML在这种合作模式得到了大量的资助。英特尔、三星、台积电在ASML都持有的有相当数量的股份。

我们国家的光刻机正在路上，如果速度够快，2025年之前我们就能把光刻机给造出来。

H. 网曝国产光刻机技术获得巨大突破，长春光机的技术有什么特征

长春中科院在光刻机技术上面获得巨大突破，目前来说芯片制造仍然是我们的卡脖子问题，其实短时间内难以突破完成自主，这也是事实，目前来说整个芯片制造生产相关技术，我们自己的国产化不到50%，也就是说目前半导体领域产业链，我们还是非常依赖进口技术设备。

很多人都说芯片这个最主要的问题在光刻机，这个其实也没有错，但是也是并不完全对，光刻机是半导体芯片领域的最重要的环节之一，我们目前来说芯片领域的问题其实并不只是卡在光刻机技术上面，很多人都认为我们把光刻机技术攻克了，我们就可以完全实现自主化，这个说法有点草率了。

以我们这些年了投入跟技术突破，我们的光刻机很多技术已经得到解决，但是想要真正达到最先进水平并且用到生产上面，短时间内几乎不可能，按照现在的技术突破速度，我们想要达到先进水平，十五年内很难，因为这是一个产业链，并不是单独的某一样设备问题，整个产业链技术的提升才会真正帮助我们在光刻机在半导体领域获得全面突破达到自主话先进水平，所以说单独技术突破值得高兴，但是还是要认清现实需要更加努力，全方位努力才可以，不能偏科。

I. 都说要提高我国的光刻机技术，那这是一种怎样的技术呢

光刻机到底是个什么东西？这个东西简单来说它就是刻画芯片的一个东西，我们手机电脑包括汽车电视它里面都离不开芯片，只不过就是芯片的功能个位相同，但是你可以把芯片理解为一个人的大脑这个芯片的精度越高，拿这个大脑就越聪明。

所以我们需要更加高端的光刻机，现在我国有的应该是在14纳米左右这个光刻机不足以满足日常的使用，你现在所使用的天级1200，骁龙865，甚至说骁龙888，它基本都是5纳米6纳米7纳米这样一个程度的，所以我们还有很大的差距，我们还是要继续努力，而且也不能盲目自信，我们应该对国产的公司有信心，但是盲目的信心是不行的，未来5~10年之内我们能够赶上去，并且走到一个世界光刻机领域相当靠前的位置，这就算是发展不错的。

J. 如何破解芯片之困绕开光刻机，使用其他技术可行吗

如何破解芯片之困？绕开光刻机，使用其他技术可行吗？由于最近两年华为公司受到了美国的打压。所以大家对于，芯片越来越感觉到至关重要。想要在芯片方面取得发展或者是一些进步，这需要多年的努力。下面给大家具体的分析一下，朋友们可以参考。

三、中国在芯片技术领域近期有新发展，我们脚踏实地很快就可以超越：

最近一段时间，我国的中芯国际，已经开始全面研发芯片技术，他们获得了很大的成功，中国有很多大学也开始了芯片方面的攻坚。所以未来几年中国的芯片技术，就会跟上世界水平。