光刻技术什么专业好

A. 我想研发光刻机，大学学什么专业

发光刻机研发涉及多个专业，光学、机械加工、电子电路、化学等。

光刻机涉及到的知识有：光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。

光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工册察困艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

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光刻机的发展光刻机：

光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。

光刻机工作没态原理跟照相机类似，不过它的底片是涂满光刻胶的硅片，各种电路图案经激光缩微投州念影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久刻在硅片上，这就是芯片生产最重要的步骤。

由于制造光刻机具有极高的技术和资金门槛，目前全球光刻机市场基本被荷兰的阿斯麦、日本的尼康和佳能三家企业垄断。