① 為什麼國家不能聯合國內最先進的企業研發光刻機
光刻機基本算是目前世界上科技含量最多的科技產品了，中國可以生產光刻機，但是想生產最先進的光刻機，就不是國內企業可以做到的了，最先進的光刻機凝聚了全球製造業大國的最尖端的科技，可以說是全球科技大國的共同產出品，簡單依靠中國國內的科技水平遠遠無法達到。
晶元是半導體行業的核心，製造晶元復雜而且漫長，提煉高純硅單晶片、製造前端晶元構建、後端封裝測試等。需求經過上千道工序重復製作，涉及50多個行業製造，上千台設備配合完成。
中國無法製造光刻機的技術難度：
1、光刻機的技術難度在於「技術封鎖」，一台頂級的光刻機關鍵設備來自於西方發達國家，美國的光柵、德國的鏡頭、瑞典的軸承、法國的閥件等，這些頂級零件對中國是禁運的。所以，ASML曾說「即便給你們全套圖紙，你們也造不出來」。
2、光刻機是「人類智慧集大成」的產物，環顧全球，最先進的7nm EUV光刻機只有荷蘭的ASML（阿斯麥）能夠生產，超過90%的零件向外采購，整個設備的不同部位同時獲得了全世界最先進的技術，因此可以在日新月異的晶元製造業取得競爭優勢。
3、最頂尖的光刻機集合了很多國家的技術支持，德國為ASML提供了核心光學配件支持，美國為ASML提供光源支持及計量設備的支持，ASML要做的就是做到精確控制，7nm EUV光刻機包含了5萬多個零件，德國的蔡司光學設備不精準，美國的Cymer光源不精，都可能造成很大的誤差。
4、與德國、瑞典、美國等一些西方國家相比，我國的晶元製造以及超級精密的機械製造方面不具備什麼優勢，沒有超級精密的儀器，自然就很難造出頂級的設備，無法造成頂級的晶元。最關鍵的是，這些超級精密的儀器根據《瓦森納協定》對中國是禁運的。
國產光刻機的「差距」：
目前國內技術領先的光刻機研製廠家是上海微電子裝備有限公司，可以穩定生產90nm製造工藝的光刻機，相比ASML的7nm製程差距還是比較大，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。同樣正是SMEE推出90nm製程的光刻機後，ASML對中芯國際的7nm光刻機訂單放行。
中國無法購買光刻機的原因：
1、只有投資了ASML的，才能獲得優先供貨權，而英特爾、三星、台積電擁有ASML很大的股份。ASML的高端光刻機產量有限，2018年18台，2019年30台，其中台積電獲得了18台，我國的中芯國際1台。
2、《瓦森納協定》的限制，瓦森納協定有33個成員國，中國不在其列，主要目的是阻止關鍵技術和遠見流失到成員國之外，在半導體領域，受限於該協定，在晶元製造、封裝、設計等方面，我國一直無法獲得國外最新的科技。
② 光刻機技術很難嗎，為何只有極少國家掌握了該技術
光刻機的技術的確很難，哪怕放眼世界上的發達國家當中，也就是荷蘭和日本兩大國家擁有光刻機，並且大多數頂尖的技術都是被荷蘭asml公司給掌握壟斷的，這一家公司集合了很多歐美國家的技術，也有了時間的沉澱，所以才成為了世界上光刻機的王牌，並不是一朝一夕就可以做到的，我國還是需要很長的路要走。
這一家公司幾乎聚齊了世界上大部分歐美國家的先進技術，所以通過了時間的沉澱積累，才成為了世界上最大的光刻機供應商，目前美國為了遏制我們，就禁止荷蘭對我國出口光刻機，所以想要研發出這樣的光刻機，並不是短時間內可以做到的，目前我國研發的光刻機依然還是精度不算高的那種，所以說我國還有很長的路需要走。
③ 光刻機技術到底是誰發明的
光刻機技術是法國人NicephoreNiepce發明的。
在早期階段其功能簡單，而且使用的材料也是較為粗糙的，通過材料光照實驗發現能夠復制一種刻著在油紙上的印痕，而在其出現在玻璃片上後，經過一段時間的日曬，其透光部分的瀝青就會變得很硬，但在不透光部分則可以用松香和植物油將其洗掉。
盡管光刻機發明的時間較早，不過在其發明之後，並沒有在各行業領域之中被使用，直到第2次世界大戰時，該技術應用於印刷電路板，所使用的材料和早期發明時使用的材料也已經有了極大區別。
在塑料板上通過銅線路製作，讓電路板得以普及，短期之內就成為了眾多電子設備領域中最為關鍵的材料之一。
光刻機性能指標：
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的解析度受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域，光源有汞燈，準分子激光器等。
④ 俄羅斯的晶元，和光刻機的技術，現在發展得怎樣了
晶元、光刻機成為了俄羅斯不能說不擔心晶元和光刻機的問題，只是他們現在根本還有必要操心這件事，而這一切和俄羅斯（前蘇聯）的近50年發展所導致的。為什麼這么說呢？
總結一下就是他們不看好晶體管，同時因為體制的原因，導致許多創新被埋沒。
正如前文所說的，晶元其實是近代最重要的科技。由於晶元所引領的是產業鏈和標准。因此，掌握了晶元技術，就可以實現壟斷，並從中獲取暴利。西方國家從晶元行業獲取到了大量的甜頭。晶元的用處很多，它需要用到方方面面的領域，無論是軍工的，還是民用的。如果一個國家因為某些政治因素不能夠進口晶元，那麼這個國家的許多行業都會受到沖擊。
⑤ 在世界上，哪幾個國家能造成高端光刻機為何高端光刻機的製造難度那麼大
今天，很少有國家擁有原子彈，但高端光刻機比原子彈還稀少，到目前為止，只有兩個國家擁有，即荷蘭和日本。
有人會問，這台光刻機是做什麼的？光刻機是晶元製造的核心設備之一，晶元生產有光刻機，封裝有光刻機，LED製造領域也有投影光刻機。
目前擁有原子彈的國家不多，但同時擁有比原子彈還少的高速攝影師，迄今為止，只有兩個國家：荷蘭和日本。有人想問這是什麼相機嗎？照相機是製造晶片的主要設備之一，是製造晶片的復印機，用於密封的照相機和用於製造LED的射影照相機。其中最為罕見的是生產晶元的相機，一種非常罕見的高品質相機，現在可以說所有的電子設備都離不開晶元。我國擺脫了艱苦卓絕的斗爭時期，深知「落後就是勝利」。我國自成立以來，不斷發展壯大，努力在各個領域追求。
它的工作原理看似並不復雜，但在實際操作中卻有困難，比如製作一個微型電路，它必須嵌入數十億美元的晶體管結構中，在一個與指甲蓋大小不匹配的空間里微笑，就像一個復雜的電路。而如此復雜的電路需要用紫外線印刷，那麼復印機製造晶體的過程到底是怎麼發生的呢？印在華夫餅上。由於紫外線下的光刻膠會發生化學反應，經過特殊清洗和蝕刻華夫餅後，仍會留下設計圖紙。
⑥ 全世界只有荷蘭可以製造頂級光刻機嗎
只有荷蘭的ASML公司能夠製造出頂級的光刻機，主要有三種原因。
一、ASML公司專注光刻機技術研發，有充足的資金投入。
荷蘭是老牌的資本主義制度國家，奉行的是自由足以貿易，因為在反壟斷上限度很低。ASML公司知取長補短，不斷吞並收購科技公司，准備集百家之長，取其精華，研發出更為驚嘆的光刻機技術。2007年到2016年間，它陸續收購了Brion、Cymer、HMI等等，擁有全球最領先的光刻機缺陷解決方案、準分子激光技術以及電子束檢測能力等等。如今的ASML公司已經成為光刻機研發領域的龐然大物，之後怎麼可能會有其他科技公司敢與ASML公司對抗呢？
⑦ 僅2個國家掌握 造光刻機為何這么難
造光刻機難的原因有：
1、西方國家的技術封鎖：
在光刻機領域，荷蘭是最有發言權的，我國很早以前就跟他們取得聯系，並且希望進行相關合作，若是雙方進行合作的話，很容易就能解決技術問題，可是美國卻總是從中作梗，要求荷蘭方面封鎖相關信息，不願意讓這個技術流到中國這里。
2、沒有參照物：
這么多年以來，中國之所以能夠發展得這么迅猛，一方面是因為擁有相對技術的經驗，另一方面就是因為，可以買到具有參考意義的物品，進行模擬式的研究，而高端光刻機的參照物，我們始終都沒有獲得，簡直就是一張白紙，相關工作很難展開。
3、光刻機技術：
光刻機技術並不僅僅是單純的一項技術，而是一個集合性質的技術群體，在一個光刻機裡面，至少有8萬多個電子元件，光刻機凝聚了人類最高智慧。
在眾多技術難關中有很多關卡，即便是解決了其中一部分，也沒有辦法將所有的東西拆解開來，與其自己研究，還不如通過商業合作的方式，使用其中某項功能，因此中國的光刻機研究，遲遲沒有真正的實現技術突破。
世界的光刻機水平：
實際上中國能製造光刻機，只是不能製造先進光刻機。在2021年的時候，中國就有企業宣布製造出了能生產24nm晶元的光刻機。這個水平放到國際上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年時國際領先水平是5nm晶元。
單論先進光刻機方面，在目前的市場上是一超多強。荷蘭的asml是世界上最大、最先進的光刻機製造商，占據了全球光刻機市場80%的份額，在行業中基本做到了壟斷。
整個世界有4大光刻機生產商，除了荷蘭的asml，日本的佳能和尼康也在市場中占據一定份額，而中國也在裡面有一個名額，那就是上海微電子。
上海微電子是全球主要的低端光刻機生產商，占據了全球低端光刻機40%的份額。所以就光刻機本身來說，光刻機並不難造，至少對於中國來說光刻機不難造，難造的是最頂尖的光刻機。
⑧ 世界上最好的光刻機來自荷蘭，為什麼不是晶元發達的美國
世界上最頂端的光刻機來自荷蘭阿斯麥的極紫外光光刻設備，差不多1.2億美元一台，還壟斷著世界高端光刻機市場，像現在最先進製程的7納米，有的國家有錢也是買不到的。
那麼為什麼這種世界高科技光刻機公司不在美國，而在荷蘭呢？首先最重要的這種技術並不是美國搞不出來。
四，是美國掌握著世界晶元最頂端的晶元設計技術，光刻機是為晶元服務，如果美國停止設計高端晶元，那麼荷蘭的高端光刻機毫無用處，產量也是被美國控制著，不過這種優勢美國越來越掌握不住了。
總的來說世界最高端的光刻機雖然在荷蘭，但是被美國控制著。
⑨ 為什麼製造晶元最好的光刻機來自荷蘭
荷蘭有一家公司ASML，它是全球做光刻機最好的國家，這個根本不用質疑，這家公司擁有強大的科研實力，碾壓了美國英國等等貌似晶元軟體實力極強的國家。而且這家公司非常精準的抓住了光刻機技術發展的轉折點，旗下的利用光源進行的浸沒式系統成功打破所有國家對於光刻機的幻想，所以荷蘭才能在全球的晶元製作技術中立於不敗之地。
ASML在原始的光源與鏡頭的基礎上，有效的提升了光刻機的蝕刻精度，這是非常具有里程碑意義的一個創新技術，所以，就憑借這一技術，ASML屹立在了光刻機行業的潮頭，它抓住了行業的風口，所以，荷蘭才能成為全球中製造晶元最好的光刻機國家。
⑩ 世界上能做出高端光刻機的國家有哪些
能製造高端光刻機的只有荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。
高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。
拓展資料：
光刻機種類
一、接觸式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形解析度相當，設備簡單。接觸式，根據施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。
1、軟接觸 就是把基片通過托盤吸附住（類似於勻膠機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；
2、硬接觸 是將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；
3、真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）
二、接近式曝光（Proximity Printing）:掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm。可以有效避免與光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現代光刻工藝中應用最為廣泛。
三、投影式曝光（Projection Printing）:在掩膜板與光刻膠之間使用光學系統聚集光實現曝光。一般掩膜板的尺寸會以需要轉移圖形的4倍製作。優點：提高了解析度；掩膜板的製作更加容易；掩膜板上的缺陷影響減小。
光刻機——網路
