光刻機用的美國什麼技術

Ⅰ 美國光刻機領先中國多少年

美國掌握光刻機核心技術，領先中國大約二十年。

Ⅱ 頂級的euv光刻機價格極高，它的市場卻為何還供不應求

隨著經濟的飛速騰飛，國內的科技公司對於晶元的的需求激增，人們開始了解到光刻機這種設備。人們或許會奇怪為什麼一些公司能夠設計出高檔的晶元，例如華為的麒麟晶元的性能不輸高通的驍龍晶元，卻無法自己生產而需要代工呢。這里涉及到一種“卡脖子”技術——光刻機。下面討論一下光刻機市場供不應求的原因。

鑒於我國實際的EUV生產狀態和國外技術的封鎖，可想而知，EUV光刻機在我國市場是供不應求的。EUV光刻機可以看作是一種限制他國的技術手段，長期引進也不是一條長遠的道路，為了國家在這方面高端技術有一席之地，科研人員仍然需要努力奮斗，在外國的封鎖中走出屬於自己的一條路。

Ⅲ 光刻機最先進的是多少納米

是90納米。

查詢官網可以知道，如今最先進的光刻機是600系列，光刻機最高的製作工藝可以達到90納米。但是相比於荷蘭ASML公司旗下的EUV光刻機，最高可以達到5納米的工藝製作。

而且即將推出3納米工藝製作的晶元。但是據相關信息透露，預計我國第一台28納米工藝的國產沉浸式光刻機即將交付。盡管國產光刻機仍與ASML的EUV光刻機還有很大的距離，雖然起步晚，但是國人的不斷努力，仍會彎道超車。

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光刻機目前一直處於壟斷地位，在光刻機領域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷蘭的公司。最初光刻機領域比較厲害的兩個國家是荷蘭和日本，而在2017年之後，ASML聯合台積電推出了光源浸沒式系統開始，將日本企業甩開距離，從此穩坐頭把交椅的寶座。技術一直處於壟斷地位。

一台頂級的光刻機需要各種頂級的零件支持，而這些零件大部分都來自西方的國家。而這些基本上都是禁止對我們國家出口，因此我國光刻機技術受到限制。前段事件美國制裁華為，不允許世界上任何一個國家給華為提供技術，華為雖然可以設計晶元，但是設計晶元的高端軟體還主要依賴於海外。