光刻技術什麼專業好

A. 我想研發光刻機，大學學什麼專業

發光刻機研發涉及多個專業，光學、機械加工、電子電路、化學等。

光刻機涉及到的知識有：光學、機械加工、電子電路、化學等多個學科知識。光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。

光刻的解析度受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工冊察困藝等各方面的限制。對准精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

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光刻機的發展光刻機：

光刻機作為集成電路製造中最關鍵的設備，對晶元製作工藝有著決定性的影響，被譽為「超精密製造技術皇冠上的明珠」，製造和維護均需要高度的光學和電子工業基礎。

光刻機工作沒態原理跟照相機類似，不過它的底片是塗滿光刻膠的矽片，各種電路圖案經激光縮微投州念影曝光到光刻膠上，光刻膠的曝光部分與矽片進行反應，將其永久刻在矽片上，這就是晶元生產最重要的步驟。

由於製造光刻機具有極高的技術和資金門檻，目前全球光刻機市場基本被荷蘭的阿斯麥、日本的尼康和佳能三家企業壟斷。