光刻機有多少尖端技術

① 光刻機最先進的是多少納米

光刻機最先進的是90納米。納米科技現在已經包括納米生物學、納米電子學、納米材料學、納米機械學、納米化學等學科。從包括微電子等在內的微米科技到納米科技，人類正越來越向微觀世界深入，人們認識、改造微觀世界的水平提高到前所未有的高度。

光刻機的概括

光刻機又名掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。光刻機的主要性能指標有支持基片的尺寸范圍，解析度、對准精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。

針對各大專院校、企業及科研單位，對光刻機使用特性研發的一種高精度光刻機，中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研製和生產。高精度對准工作台、雙目分離視場CCD顯微顯示系統、曝光頭、氣動系統、真空管路系統、直聯式無油真空泵、防震工作台和附件箱等組成。

② 什麼是光刻機一台光刻機可以製造多少晶元

一台光刻機可以製造很少的晶元。相信大多數人都清楚，光刻機的用途是刻字。光刻機是生產手機晶元的重要機器之一。目前，只有少數國家可以生產光刻機，只有荷蘭ASML公司可以生產高精度光刻機，而且荷蘭ASML公司壟斷了全球高精度光刻機80%以上的市場份額。目前，一台光刻機的成本高達上億美元，而一台光刻機一年的產能最多隻有幾台，光刻機是目前世界上最尖端的設備技術之一，而一台7納米的光刻機價格非常昂貴，價格高達1.2億美元，甚至1.2億美元的光刻機，也是供不應求。

據相關數據顯示，目前ALSM提供的攝影機的理想產能為每小時200片12英寸晶圓，其中大部分處於理想產能的50%。以華為的9905G晶元為例，其總面積為113.31平方毫米，那麼一塊12英寸晶圓可以提供約600塊原材料，除去一些不好的和質量差的，約500塊。因此，如果你看一下，那就是每天50萬個晶元，一台平版印刷機一年可以生產大約1.8億個。因此，價值10億美元的光刻機是值得的。

③ 華為有沒有能力研究光刻機

華為有沒有能力研究光刻機？ 我們沒有華為是萬萬不能的，但華為也不是萬能的！目前華為是沒有這個能力。 不過按照光刻機的原理，只要華為大手筆投入從全球廣泛挖來光刻機研究人才投入到光刻機的研發中去，是可以研發出來的。

光刻機可以說是需要最頂尖精密的儀器之一，技術含量高而且零部件也高，涉及到系統集成、材料、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、高精度微環境控制等等各種先進的技術。但光刻機的原理並不是不能攻克的，就如目前國內的上海微電子設備集團就已經有自己的光刻機，雖然是低端光刻機原理是差不多的。

不過可惜的是，只是研發出來沒啥用，沒有相關高精細零部件的配套，也是空話一句。也就是製造不出來，不能達到製造高端晶元的要求。如果只是研發出低端光刻機也沒啥用，國內市場已經具備而重復了，我們要的是高端光刻機。

光刻機的市場需求量小，基本上被荷蘭ASML、日本尼康、國內上海SMEE公司所壟斷。上海SMEE公司具備研發和生產光刻機的能力，但不能研發高端光刻機而且更沒有辦法引進高端高精細零部件而沒有辦法製造高端光刻機。為什麼？

目前我們要製造高端光刻機所需周邊產業鏈不能滿足要求，需要高精尖的光源、高精度軸承、反射鏡片等等，這些部件ASML也得要從歐美日等公司采購，資金和技術也要依賴於他的大客戶如三星、英特爾、台積電等。但這些高精尖的零部件，歐美日又是對我們禁運獲取不到了，我們只有從自己的產業鏈上進行培養，但這個培養時間可不是短期的，甚至有可能培養不起來。

如果高端光刻機一直從ASML處獲取不到，今後如果連加工高端晶元也被限制，那也就不得不從自己研發高端光刻機的方向走。可行的辦法可能是有實力的相關企業聯合起來，不但攻克高端光刻機本身研發技術，同時攻克零部件技術，也許整個產業鏈就起來了。比如華為聯合上海SMEE、中科院廣電技術研究所、以及關鍵零部件的研發企業，共同組建聯合體進行整體推進，也許我們擁有高端光刻機甚至打垮ASML也不是夢。

如果沒有光刻機，就生產不出晶元；如果沒有晶元，就製造不出手機！

華為有沒有能力研究光刻機？ 憑華為的技術和資金實力，當然有，但是：

因此， 即便華為有能力、有資金研究光刻機，但在幾年甚至幾十年內也無法生產、製造出當前最尖端的光刻機。 ----這就是現實！

光刻機是晶元製造的核心設備之一 ，主要用於「生產製作晶元和晶元封裝「。可以說誰擁有先進的光刻機，誰就擁有晶元生產市場的主動權。晶元生產製造是一項高 科技 技術。目前美國的蘋果、高通，中國的華為、小米、Oppo、Vivo等，除了三星，都不具備生產製造晶元設備和技術。

一、目前具備生產製造光刻機的企業有哪些？

二、光刻機的生產技術。

三、我國企業為什麼不買來製造自己的晶元？

因為供貨太少，所以ASML每年生產的光刻機都被台積電、三星等直接買斷貨了。

雖然我國有企業能生產晶元，但其生產晶元的技術水平還是較落後，差最先進的好幾代。 （別人先進的光刻機也不賣給你）

華為有沒有能力研究光刻機？ 憑華為的技術和資金實力是有 。但研發並生產製造如此高精尖的技術產品， 不是靠錢和技術能搞定的 。還有另一個問題，製造光刻機的很多材料和配件對中國是禁止的。

所以華為、高通、蘋果所研發、設計的高端晶元，只能請台積電這類代工企業代工生產製作了！

你說呢，歡迎你的指點和討論！

很遺憾的告訴你，華為目前無法研究出光刻機。

光刻機是製造晶元的最核心設備之一。但至今為止，我國在光刻機方面一直沒有拿出手的成績。

那為什麼說華為無法研究出光刻機呢？

首先來了解下光刻機的原理。光刻機也叫曝光機，光刻簡單理解就是用光來製造電路結構。用光刻機來製造晶元的過程，實際上跟洗照片有點類似，我們把設計好的集成電路圖通過紫外光源用掩模板刻到硅晶圓上的過程。

光刻機的製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上掌握這個技術的企業屈指可數，最好的光刻機企業是荷蘭的艾斯摩爾ASML。這家公司在光刻機技術上應該說遙遙領先，處於壟斷地位。排在ASML後面的是日本企業，尼康和佳能。

光刻機原理雖然簡單，但製造精度可以說是變態的高。比如ASML的7nm晶元工藝，要知道原子的大小在0.1納米，這個精度我國就無法製造。再比如光刻機超高精度的對准系統，要求近乎完美的精密機械工藝。

除以以外，光刻機並不是一項單獨的技術，一台光刻機有超過80000個復雜零件，集成數百家的專利技術，它需要強大的整合能力，這使得光刻機很難被模仿。國外企業甚至放話：給你圖紙，你都造不出來。

我國的光刻機和晶元能力離世界水平還有很大差距，但是在中興事件後我們已經認識到製造高端晶元的重要性，國家政策也開始傾向這個領域。最後說一點，自主創新是進步的靈魂，我們一定要研發自己的核心技術。

    前兩天，有個朋友問我「光刻機是不是刻錄CD的機器啊，華為造不出來嗎？」。看來很多人不知道光刻機是怎麼回事，下文具體說一說。

    什麼是光刻機？

    簡單來說，光刻機是用來製造晶元的，比如手機處理器、電腦CPU、內存、快閃記憶體等，可以說半導體離不開光刻機。

    目前， 最先進的EUV光刻機全球僅有荷蘭的ASML能生產 ，集成了全球最先進的技術，90%的關鍵設備均自外來，德國的光學技術設備、美國的計量設備和光源設備、瑞典的軸承，ASML要做的就是精確控制。

    最關鍵的是，這些精密的設備，對我國是禁運的，客觀上反應了我國和西方精密製造領域的差異。

    有錢也買不到

    既然無法生產最先進的光刻機，那麼可以從ASML那裡買到嗎？很難，原因有兩點。

    1）獨特的合作模式

    ASML有一個奇特的規定，只有投資了ASML，才能獲得優先供貨權，英特爾、三星、台積電、海力士等在ASML中有相當的股份，形成了龐大的利益共同體。ASML的光刻機產量本來就不高，還被「抱團」企業搶走了大部分訂單。

    因此，我國的中芯國際2018年成功預定的7nm光刻機，至今仍未收到。

    2）瓦森納協定的限制

    《瓦森納協定》是一部全球性的法令，我國就在被限制的名單中，嚴格限制高技術向我國出口高新技術。因此，我國與發達國家在能源、環境、可持續發展等領域 科技 合作比較活躍，但是在航天、航空、信息、生物技術等高技術領域很少合作。

    回到半導體，也正是這個原因，從晶元設計、生產等多個領域，不能獲取到國外的最新 科技 。還可能因為一些「莫須有」的原因，被卡脖子。

    我國的光刻機技術水平

    目前，我國生產光刻機的廠家有上海微電子、中電 科技 等，但是製程工藝相對較低。上海微電子（SMEE）是國內最領先的光刻機研製單位，能夠穩定量產90nm的光刻機，距離荷蘭ASML的7nm工藝還很遠，而且ASML即將量產5nm工藝的光刻機。

    總之，我國生產的光刻機與世界先進水平有很大的差距，主要是因為西方技術封鎖造成的。同時因為很多原因，也無法買到最先進的EUV光刻機。這也驗證了那句話，只有掌握核心技術，才不會被「卡脖子」。

說到光刻機——是中國晶元業製造之痛，可以絕不過分的說，在即將到來的第三次產業轉移中，誰能掌握晶元，誰就能掌握未來的財富之源；誰能手握高端晶元製造，誰就能擁有IC產業的話語權。光刻機是晶元製造過程中最重要的一環，佔了總成本的1/3，是最當前我們最需要克服的尖端技術，沒有之一。光刻機被譽為「工業上的皇冠」，而荷蘭ASML的EUV光刻機則被譽為「皇冠上最閃亮的那顆寶石」

還記得，中芯國際向ASML訂購的那台EVU本應該在2019年上半年到貨，卻一直被美國阻撓，沒有拿到荷蘭政府的許可令，加之經歷了中興事件之後，深深讓國人感受到了中國在半導體晶元領域的薄弱，而此次美國升級對華為的制裁，更是讓國人認識到了中國在晶元製造設備領域的薄弱。

關於晶元技術，是非常的復雜，每個學科的交叉超出了你我的想像， 所以我覺著華為想要一家研製光刻機，不太現實。

下面談談光刻機

在80年代，光刻機的技術其實一直掌握在美國人的手中，後來日本尼康憑借不斷的投入取得了突破，在2000年左右，特別是尼康市場份額甚至超過了50%，成為了當時當之無愧的帶頭大哥。當時日本一度把尼康光 科技 形容為民主之光，讓日本人看到了新希望。

我們再來看看荷蘭的ASML從1984年誕生後的20年，經營可以說是非常的困難，生存無望只能四處找投資，最終飛利浦勉強的收了，在飛利浦旁邊找了個空地建了一個工廠，這20年基本上就是搞銷售搗鼓關系，勉強地活了下來。

ASML的成功離不開一個貴人林本堅，1942年出生於越南，中國台灣人，祖籍廣東潮汕，在2008年當選了美國國家工程學院院士。再加入台積電之前，林每間在IBM從事成像技術的研發長達22年，當時世界無二的頂級的微影專家，在2000年時候，當時林本堅非常的堅定的投入浸潤式的光刻技術的研究，但是當時IBM並不買賬，不給研發經費，在2000年加入了台積電，並在2002年研發出來193納米的浸潤式的光刻技術，這個技術一經推出受到各方勢力的巨大阻力幾乎被康佳、佳能、IBM所有的巨頭封殺，就在這個時候半死不活的ASML敏銳地看到其中蘊藏的巨大機會，果斷與林本堅合作，2004年ASML和台積電共同研發出第一台浸潤式微影機。

優秀的性能讓ASML的產品全面碾壓尼康。在短短幾年時間內尼康全面淪落，在2012年ASML收購頂級光源企業Cymer這個收購意義非常重大，在2015年經過10年的研究，最終EUV弄到了可以量產的狀態，到目前為止，EUV完全被ASML壟斷。市場佔有率100%

光刻機三大要素，包括激光系統、高精度的鏡頭，精密儀器製造技術，鏡頭來自德國，激光系統來自美國，其中8萬多個零件來自全球不同的國家，ASML的技術佔比甚至不超過10%。ASML的主要精力還是在溝通合作和協調，其中台積電、英特爾、三星等巨頭都消耗了巨大的人力來研發EUV的光刻機。

光刻機按照用途可以分為IC 前道光刻機、封裝光刻機、面板光刻機以及 LED/MEMS/功率器件光刻機。而我們經常所說的晶元製造所使用的則是IC前道光刻機。

資料顯示，光刻工藝是晶元製造過程中佔用時間比最大的步驟，約占晶元製造總時長的40%-50%。同時，光刻機也是目前晶圓製造產線中成本最高的半導體設備，約占晶圓生產線設備總成本的27%。目前最先進的 EUV 設備在2018 年單台平均售價高達 1.04 億歐元。

國產光刻機與國外技術差距較大，但部分領域已實現突破雖然，中國也有自己的國產光刻機廠商——上海微電子裝備股份有限公司（SMEE），但是其在技術上與國外還存在較大差距。

上海微電子成立於2002年，主要從事半導體裝備、泛半導體裝備以及高端智能裝備的設計製造銷售，其中光刻設備是公司的主營業務。目前公司光刻機可以應用於集成電路產業鏈中晶圓製造、封裝測試，以及平板顯示、高亮度 LED 等領域。目前上海微電子直接持有各類專利及專利申請超過2400項。

據上海微電子官網介紹，其主要生產 SSX600 和 SSX500 兩個系列的光刻機。其中，SSX600 系列步進掃描投影光刻機採用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術，以及高速高精的自減振六自由度工件台掩模台技術，可滿足 IC 前道製造 90nm、110nm、280nm 關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求，該設備可用於 8吋線或 12 吋線的大規模工業生產。SSB500 系列步進投影光刻機不僅適用於晶圓級封裝的重新布線（RDL）以及 Flip Chip 工藝中常用的金凸塊、焊料凸塊、銅柱等先進封裝光刻工藝，還可以通過選配背面對准模塊，滿足 MEMS 和 2.5D/3D 封裝的 TSV 光刻工藝需求。

△上海微電子600系列光刻機

在技術上，上海微電子的IC前道光刻機與國際先進水平差距仍較大。上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中性能最好的最高可實現 90nm 製程節點，ASML 的 EUV 3400B 製程節點可達到 5nm。這也使得在IC前道光刻機市場，國產化率較低，國內的IC前道光刻機市場主要被ASML、尼康和佳能瓜分。

不過，在對光刻精度要求較低的封裝光刻機、 LED/MEMS/功率器件光刻機、面板光刻機市場，上海微電子則取得了不錯的成績。

目前上海微電子封裝光刻機已實現批量供貨，成為長電 科技 、日月光、通富微電等封測龍頭的重要供應商，並出口海外市場，在國內市場佔有率高達 80%，全球市場佔有率達 40%。同時公司 300 系列光刻機可以滿足 HB-LED、MEMS 和 Power Devices 等領域單雙面光刻工藝需求，佔有率達到 20%左右。

在面板光刻機市場，上海微電子也已經實現首台 4.5 代 TFT 投影光刻機進入用戶生產線。不過，目前市場主流都是6 代及 6 代以上的產線。要想打破日本尼康和佳能所壟斷的 FPD 光刻機市場格局，仍需要時間。

近期業內有消息稱，上海微電子的28nm光刻機即將於2021年交付。國產光刻機有望迎來突破。

千磨萬擊還堅勁，任爾東南西北風，厚積薄發，這就是我們的精神！最後我問大家一個問題，如果華為手機的性能在明年沒有達到你的預期你，還會不會考慮買？

華為如果有能力研究光刻機的話，也不會找台積電代工生產晶元了。你以為任何企業都能夠成為荷蘭的ASML嗎？ASML的成功在於，它聰明的將三星，英特爾，台積電等等企業「拉到了它的陣營」，甚至可以毫不誇張的話，荷蘭的阿麥斯從來都不是一個孤零零的企業，它是全球智慧的結晶！

光刻機的復雜程度

我們對於光刻機的了解，可能在於它是生產晶元中的重要一環。但是，它到底怎麼製造，到底有什麼技術難度呢？這裡面我們可以了解下。

一台光刻機中有太多內容了，從測量台、曝光台，到激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、掩模版、掩膜台等等多項內容。

在這些零部件的組合下，光刻機需要通過將光束透射過畫著線路圖的掩模，並且將線路圖映射到矽片上，在經過過清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等等。

而為了能夠形成對於晶元的光刻，並且不斷挑戰摩爾定律，ASML需要不斷的加強，對於光 科技 技術的提升。也正是因為在技術方面的提升，它需要向德國蔡司提供的鏡頭，也需要美國公司供應的光源……

可以說，ASML光刻機真正的體驗了全球化大生產的功績。而，這些恰恰是華為目前所欠缺的，因為美國的一些阻止，很多企業放棄了和華為的合作，而在這種情況下，華為想做到光刻機，它就必須要自給自足，然而所需要投入的人力財力，遠遠大於我們的想像。

阻止，不會催生新的競爭對手

對於荷蘭阿麥斯來說，是不願意去是催生新的競爭對手，為什麼將三星海力士英特爾等公司拉入到自己公司中，成為阿麥斯的股東之一？ 除了獲得先進的技術支持之外，還有一個最關鍵的因素是不想讓其他的企業成為阿麥斯的競爭對手。

其實我們知道像佳能，尼康，這些企業都是目前在光刻機領域有所研究的企業，為什麼絕大多數的市場特別是高端市場，還是被阿麥斯給占據呢？我們不能夠去忽略阿麥斯的這種集合眾家之長的方式。

《瓦森納協定》其中就有半導體產業這塊問題，我們被以美國為首的西方國家，進行技術出口管制，讓我們的光刻機發展困難！

華為，不需要光刻機

光刻機雖然重要，但是對於華為來說並不是主要的業務。華為主要的業務是運營商業務和消費者業務，這是它的重點，華為沒有必要從頭開始，進行光刻機的研究，且不說所需要投入巨大的人力財力，關鍵是已經在技術上落後先進的技術，即使華為想去研究，也需要花費有更長的時間。

而對於我國來說，上海微電子目前生產的90nm光刻機，和已經在發售的ASML 7nm EUV光 科技 有著巨大的差距，更不用說，它們已經在研究5nm，3nm工藝……

之前有消息稱，武漢光電國家研究中心的甘宗松團隊，成功研發利用二束激光，生產9nm工藝製程的光刻機。當然，這件事到底成分多少，我們只能期待，其實未來中國光 科技 的發展一定要另闢蹊徑。

我相信我們一定能夠解決光刻機的束縛，雖然說華為不可能去生產光刻機，但是有很多默默無聞的企業正在不斷前行。

該問只問華為的能力，而"有沒有能力研究"就是在未來能不能研究出來，未來的能力是不是可期待的。

我的回答是:能。

理由，一方面是華為現在的 科技 隊伍能力強、水平高以及基礎和應用都研究，而且兼具專業性、集成性、跨域性，這是已知的，肯定比荷蘭的那個ASML公司強得多、高得多、深得多，同樣已知ASML公司的能力主要是集成全球最先進技術，德國光學、美國計量和光源、瑞典軸承，當然，現在比中國的光刻機研究公司強；另一方面，光刻機的原理以及基本機理也是已知的，連光刻機的基礎、特有、配套、相關的技術及其難點都是什麼以及研究現狀、發展趨勢各是怎樣，也已知或可知。

而 科技 與 科技 ，天然具有底層相同性或相近性，讓跨域研究成為了一種長期以來就存在的現實，讓復合型 科技 人才隊伍屢見不鮮。

可以肯定的是， 科技 隊伍現實的能力和水平越高，跨域能力就越強、復合水平就越高。這已經被 歷史 上的很多實例證實了，半路出家也走通了通向未來的路。

何況，華為向來是以捨得投入巨資廣攬全球高層次研究人才著稱的，對光刻機人才一定是一樣對待，又可與國內的光刻機研究公司合作，而引入人才和合作自然可使 科技 隊伍跨域、復合，而且是高起點的，研究一開始便可直奔高水平、速達高水平。

恰恰，國內正是只缺高端的光刻機，而對於華為很可能被制約而言，研究高端光刻機不僅僅是非常必要的，還是時不我待的，太慢了就太危險了。

事關自身，華為也必定快馬加鞭。

更何況，華為不差錢，每年投入科研的錢比ASML公司多太多了，也一定比國內光刻機公司的投入多。

華為這個通訊王者會不會立足於已有的強能力，去研究產業鏈上的新備胎或新備份呢？

華為，之前在世界上干翻的昔日老大愛立信、思科以及老二蘋果，倒是都屬於通信領域的，華為是以後來者的身份中途上路，在國內，手機同樣，在小米手機如日中天之際，才認認真真地做起來，後來者成為了手機的新王者，高端手機之王兼中低端手機之王。而稱王，主要是依靠 科技 能力強。

華為現在不能，未來卻未必。

不能什麼困難都靠華為，華為現在已經在全球知名。但要清醒，中國還有第二個華為嗎？在華為承受這種極端打擊之下，步步危機，我們除了買點華為的貨根本幫不上忙，目前替他造勢吹牛隻會增加敵對勢力更嚴重的封鎖和打擊，沒啥益處。所以希望他們頂住，也希望中國 科技 企業後起之秀加大自主研發迅速崛起。只是注意有本事前要低調悶頭發展，像之前的華為一樣，這樣才能承受的住這種極端考驗，不然輕輕松就讓人卡脖子和被定點清除了。所以還要繼續改革開放，繼續包容，還得忍，還沒到自豪的時候，但是我們自信這一天不會遙遠，繼續持續艱苦奮斗吧！中華民族的全面復興已不遙遠！

華為當然有能力研究光刻機

不知道為什麼總是有人問這樣的說起來很無知的問題！

1、華為目前沒能力研發光刻機

目前光刻機最好的技術在ASML，可用於5、7nm的晶元製造，而中國量產的技術在90nm，相差至少是10年吧。

光刻機的核心技術究竟是什麼？從元件來看，核心設備是鏡頭，而核心技術是解析度和套刻精度。鏡頭這東西目前主要是采購，比如從日本索尼、CANNO來采購，但解析度、套刻精度就要靠裝配工藝了。ASML之前說公開圖紙，別人也造不出來，就是指裝配工藝可不是按圖紙就能夠造出來的，需要幾十年積累，這一方面華為目前沒有，中國廠商都沒有，所以華為造不出來。

2、未來估計也不會去研發光刻機

前面已經講過了，華為目前沒有能力造光刻機，那麼未來有沒有能力，這個就不好說了，但我覺得未來華為估計也不會去研發光刻機。

雖然現在來看，似乎華為什麼都做，從原本的通信設備廠商，到手機，電腦，晶元，操作系統、雲等等。

但華為也是有自己的邊界的，這些年的業務延伸，更多的還是基於自己的業務慢慢去擴散，以通信技術、AI等為基礎。

很明顯，光刻機是半導體製造領域，並不是華為需要去乾的事情，所以未來大概率不會去做光刻機。

3、華為並不需要什麼都去做，也沒這個必要

最後再說說，很多人總是莫名其妙的，其實一旦企業強了，就什麼都要干，什麼都能幹，這是不正確的，就算企業想要多元化，也是有自己的邊際，有所為有所不為。

華為並不需要什麼都做，坦白講，華為也沒有這個能力，也沒這個必要，所以關於光刻機，就不要強行往華為身上套了。

④ 造光刻機比原子彈更難為何荷蘭有人說：圖紙給我們也造不出來

我沒研究過晶元生產工藝，但了解過曬字工藝，理論上來講是相同的，個人認為解決了高倍放大鏡和高倍微縮鏡就攻克了50％困難，剩下的50％就是製造工藝的精度問題了，其實想解決工藝差重點在於電機精控，可以採用雙級或許多級來縮小工藝誤差。

荷蘭人這么說是有道理的，圖紙只是把光刻機的結構和尺寸告訴你，內部的各個零部件不是有圖紙就能自己製造出來的，就像現在的華為手機，美國斷供晶元後我們只能用自己的，不過手機性能要回到過去了，為了解決這個問題就要進口荷蘭的光刻機，理所當然更難。

科學技術一直在進步，光刻機雖然我們起步晚，並不是說我們就不能攻克了。困難是困難，難道困難就不做了嗎？舉國之力，一個領域一個領域的突破，我相信國家的能力，我也相信中國人自古以來的聰明和能力，現在這個時刻才是關鍵，讓國家讓國民清醒，什麼才是國家發展的最重要因素，不是一天靠炒房地產，不是靠一天做明星夢，而是靠科技靠知識，靠的是不向老天低頭的骨氣。中國自古不缺人才。

原子彈是研發集成，光刻機是成果集成。難度前者最大，沒有現成實物，基本所有都要從理論到實物，各種驗證，從無到有，再集成，再優化，再驗證。後者難度在優化整合上。攻城不怕堅，攻書莫畏難。科學有險阻，苦戰能過關。我們現在各方面條件比剛建國時不知好多少倍，更何況我國已經有了能生產14納米的光刻機。我堅信我國的科學家和能工巧匠們一定能攻堅克難，再創奇跡！

⑤ 中國光刻機現在最好的技術是多少米的

中國光刻機現在達到了22納米。在上海微電子技術取得突破之前，我國國產的光刻機一直停留在只能製造90nm製程的晶元。

這次我國直接從90nm突破到了22nm也就意味著我國在光刻機製造的一些關鍵核心領域上已經實現了國產化。而自己掌握核心技術有多重要自然不言而喻，在突破關鍵領域以後，更高階的光刻機的研發速度只會越來越快。國產光刻機突破封鎖，成功研製22nm光刻機，中國芯正在逐漸崛起。

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。

⑥ 中科院團隊成功突破光量子晶元核心技術

隨著科學技術的發展，人們已一隻腳邁進了智能 社會 的門檻，大量智能電子產品隨處可見。隨著 社會 智能化的發展，晶元的地位越來越重要，已成為手機、電腦、智能 汽車 。航天、物聯網等行業發展的基礎。

眾所周知，我國進入半導體行業較晚，技術積累薄弱，國內企業在發展的過程中，太過於注重品牌知名度的提升，將大部分精力投入到了輕資產行業的發展，忽視了重資產行業的重要性，再者就是西方國家為了限制我國 科技 的崛起，早在幾十年前就簽訂了《瓦森堡協定》，禁止向我國出口高尖端技術。受多種因素的影響，國內企業發展所需的晶元大部分從西方國家進口。

晶元過於依賴進口，對我國 科技 的發展而言真的不是一件好事，華為的遭遇就是很好的證明！

2020年5月，美國為了絞殺華為，突然修改世界半導體行業規則，禁止全球使用美國技術超過10％的半導體企業與華為合作，直接引發了華為的晶元危機，業務發展受到了很大的影響，如手機業務，已從世界第一大手機廠商的寶座跌落，今年第一季度國內市場份額從44％暴跌至16％，海外市場份額從去年的18.9％跌落至4％。

美國之所以欲將華為置之死地而後快，並不全是因為華為在5G通信領域打破了高通等美企的壟斷，成為通信領域新的領頭羊，主要是因為華為強大的研發能力！

據公開資料顯示，華為憑借著58990項專利，成為了世界上擁有專利最多的 科技 公司。除此之外，不但在通信、手機領域取得了不凡的成就，其在晶元、自動駕駛、操作系統、存儲、人工智慧、雲計算等領域都達到了世界頂級的水準。

華為憑借一己之力，與高通、蘋果、谷歌等美國多家行業老牌巨頭斗得不亦樂乎，讓世界各國重新認識了中國 科技 的力量與魅力，如此強大的華為，怎麼可能不引起一向自以為是的美國的恐慌？為了不影響自己主導全球的計劃，美國怎麼可能讓其繼續發展下去？

2019年5月，美國以莫須有的罪名將華為列入「實體清單」，禁止美企與之合作。美國集全國之力、集盟友之力對華為長達一年的打壓，不但沒有將其打倒，反而讓他變得更加強大。這一情況的出現，讓美國很是恐慌，不得不使出殺手鐧，晶元封鎖！

美國的晶元封鎖，讓華為迎來了有史以來最大的生存危機，也讓我們意識到， 在當今這個時代，要想擺脫被人魚肉的命運，就必須實現技術獨立，實現晶元的國產化，徹底打破封鎖！

當前主流的晶元是硅基晶元，是從一堆堆沙子中提取中純度高達99.999％的硅晶圓，然後再經過設計、光刻、蝕刻、封裝、測試等一系列復雜的流程，最終才能被應用在電子產品上。

在晶元製造全部工序中，光刻是我國晶元製造的短板，究其原因就是EUV光刻機被卡了脖子，而國產的光刻機僅達到了28nm級別。

或許有的人會說，幾十年前，我國原子彈都能造出來，現在造一個EUV光刻機有什麼難的？事實上，我們短時間內還真的造不出來EUV光刻機，盡管中科院、清華大學等科研機構突破了很多EUV技術。

EUV光刻機不僅需要大量非常高尖端技術，還需要大量的元器件。 據ASML公司EUV光刻機總工程師透露，製造EUV光刻機所需的元器件超過10萬件，來自世界上36個國家的1500多家企業，每一件都代表著業內的最高水平。值得一提的是，在ASML公司製造的EUV光刻機中，沒有一件核心元器件來自我國企業。 由此可見，要想獨自製造出EUV光刻機，我們將要克服多少困難。簡單點說，我們要想獨自製造出EUV光刻機，就必須將我們的基礎工業水平達到西方國家基礎工業水平的總和。

所以，我們要想短時間內打破晶元封鎖，解決晶元被卡脖子的問題，我們必須另闢蹊徑。所幸的是，中科院院士已經找到了這個「捷徑」！

前不久，中科院院士、中科大教授郭光燦領導的科研團隊在光量子晶元方面取得重大突破，成功掌握量子干涉核心問題的技術，這一重大技術突破，直接奠定了光量子晶元研製的技術基礎。 中國院士團隊的這一重大技術突破，讓世界上唯一的超級 科技 強國美國震驚不已： 沒想到中國科研人員會在這么短的時間內掌握光量子晶元技術。

要知道，我國是屬於晶元行業起步較晚的國家，技術和人才儲備都很薄弱，我們要想實現在光量子晶元領域的領先，付出的汗水將是發達國家科研人員的幾百倍！

對於中科院院士團隊在光量子晶元領域實現的重大技術突破，不少業內人士紛紛發表自己的看法： 一旦光量子晶元實現大規模量產，晶元的成本要比現在的晶元要低，而且中國也將會掌握晶元領域的主導權，華為的「芯」病也將會得到徹底根治！

不少網友心中看到這心中會有個疑惑，我快把光量子晶元吹上天了，那麼，它到底是個啥東西呢？又具有什麼特殊的能力呢？

所謂的光量子晶元， 就是用光子代替傳統晶元的電子，通過光源能量和形狀控制手段，將光投射線路經過光學補差，將設計好的線路圖映射到晶片上。

晶元整體性能是否先進，與晶片上集成的晶體管數量有關，要想晶元性能更先進，就必須在固定大小的晶片上盡可能的集成更多的晶體管。

光量子晶元與傳統硅晶元相比，其採用微納米加工工藝、以光為載體，其數據傳輸能力更強、更穩定，而且信息儲存的時間也會更久等等。

隨著5G時代的到來，我們即將從互聯網時代邁入物聯網時代，我們對數據處理的速度的要求也會更高，傳統晶元很可能無法滿足我們這方面的需求，所以，更為先進的光量子晶元成為了我們在物聯網時代的不二選擇。

對於光量子晶元的發明，不少業內人士認為，其重要性不亞於計算機的發明，誰率先掌握了這種技術，誰就可以領跑一個新的時代！

筆者堅信，隨著我國科研人員的不斷付出，我們必將能在短時間內攻克光量子晶元所有技術難關，實現大規模量產，打破美國的晶元封鎖，成為新時代的領跑者！

⑦ 光刻機最先進的是多少納米

是90納米。

查詢官網可以知道，如今最先進的光刻機是600系列，光刻機最高的製作工藝可以達到90納米。但是相比於荷蘭ASML公司旗下的EUV光刻機，最高可以達到5納米的工藝製作。

而且即將推出3納米工藝製作的晶元。但是據相關信息透露，預計我國第一台28納米工藝的國產沉浸式光刻機即將交付。盡管國產光刻機仍與ASML的EUV光刻機還有很大的距離，雖然起步晚，但是國人的不斷努力，仍會彎道超車。

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光刻機目前一直處於壟斷地位，在光刻機領域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷蘭的公司。最初光刻機領域比較厲害的兩個國家是荷蘭和日本，而在2017年之後，ASML聯合台積電推出了光源浸沒式系統開始，將日本企業甩開距離，從此穩坐頭把交椅的寶座。技術一直處於壟斷地位。

一台頂級的光刻機需要各種頂級的零件支持，而這些零件大部分都來自西方的國家。而這些基本上都是禁止對我們國家出口，因此我國光刻機技術受到限制。前段事件美國制裁華為，不允許世界上任何一個國家給華為提供技術，華為雖然可以設計晶元，但是設計晶元的高端軟體還主要依賴於海外。

⑧ 中國自主光刻機為何如此難產

光刻機，晶元工藝裡面最關鍵的機器設備之一，當今世界上最頂級的光刻機為荷蘭阿麥斯光刻機，佔全球市場份額超過80％以上，幾乎可以說是壟斷了全球市場，屬於無可匹敵的地位。如今五納米技術已經量產，三納米技術正在測試，技術領先全球超過兩代，之所以那麼厲害，主要是因為他們集結了全世界十幾個發達國家的最尖端技術的結晶，並不是單獨一個公司一個國家的技術成果，而是十幾個發達國家合作的成果。

基礎科學本身就是任何科技的地基，基礎人才培養又是科技是否能突破的關鍵，光刻機也是一樣，基礎科學是最關鍵的，我們並不是造不出來那種頂級的光刻機，關鍵在於穩定性以及壽命跟故障率，還有就是使用的流暢度是否能做好，這個才是根本問題，基礎科學基礎人才的培養是關鍵，當然也不是一朝一夕的事情，需要各方面去積累，這個需要時間。